Ученые Института прикладной физики РАН активно ведут разработку российской литографической установки по производству микрочипов согласно передовым технологическим нормам — уже готов первый прототип подобной установки, на котором были получены 7-нанометровые тестовые образцы.
К слову, сейчас в России массово могут выпускать полупроводники в лучшем случае по 65-нм техпроцессу, но в основном в производстве находятся 90-нанометровые изделия. Однако говорить о каком-то серьезном прорыве в этой области не стоит — полноценное промышленное оборудование по выпуску чипов по 7-нм и более тонких техпроцессам мы сможет подготовить в три этапа, на которые уйдет порядка шести лет.
Планируется, что к 2024 году ученые должны представить так называемую «альфа-машину» — установка будет представлена в виде рабочего оборудования с возможностью выполнения всего цикла производственных операций и полной реализацией всех необходимых систем.
К 2026-му должна выйти уже «бета-машина», в которой все системы и компоненты будут доработаны, улучшены и максимально автоматизированы, так как сложность оборудования значительно возрастет. Данную установку необходимо будет задействовать на крупных производствах и в реальных техпроцессах, что позволит полностью отладить выпуск микрочипов на данном оборудовании.
На третьем, заключительном, этапе разработки, рассчитанном на период с 2026 по 2028 годы, отечественное литографическое оборудование получит более мощный источник излучения, доработанными системами позиционирования, а также подачи. Установка станет функционировать быстрее и намного точнее.Источник — ИПФ РАН
