Компания Huawei запатентовала технологию преобразования ультрафиолетового света для устранения искажений из-за интерференции при работе на предельно малых длинах волн. Эта разработка позволяет ей использовать 10-нанометровый процесс для самостоятельной печати микрочипов. И тем самым не просто обойти санкции США — а бросить вызов всей индустрии производства данных устройств.
Экстремальная ультрафиолетовая (EUV) литография настолько сложна, что нидерландской компании ASML (мировой лидер в области EUV-литографии — прим. ред. Техкульт) потребовалось 17 лет и более 6 млрд. евро инвестиций, чтобы создать коммерческую установку для ее применения. В ней капли расплавленного олова дважды облучаются лазером – сначала для придания им формы блина, а потом для его испарения. В результате получается микрооблачко плазмы, которое испускает EUV-свет с нужными параметрами. Процесс происходит с частотой 50 000 раз в секунду.
Зеркала в литографической машине
Данная технология предельно засекречена, доступ к ней имеют лишь пять компаний во всем мире: Intel и Micron в США, Samsung и SK Hynix в Южной Корее и TSMC на Тайване. Другие производители, такие как Huawei, ранее просто заказывали изготовление чипов у TSMC, но после наложения санкций США эта возможность стала недоступной. Повторить технологию чрезвычайно сложно, потому что необходимое EUV-излучение балансирует на границе УФ и рентгеновского спектра.
Однако инженеры Huawei сумели найти выход, применив систему зеркал для борьбы с эффектами интерференции. Исходный луч разделяется на «подлучи», которые передаются на микроскопические зеркала с индивидуальными параметрами вращения. Это позволяет регулировать интерференционные эффекты для их взаимной нейтрализации и в результате складывать все «подлучи» в единый луч с нужными для EUV-литографии свойствами.
